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智能电子应用协同创新中心PI膜腐蚀自动化设备询价采购

INEW动态 2019-04-08 15:40:00

武汉新能源研究院有限公司现对智能电子应用协同创新中心PI膜腐蚀自动化设备进行询价采购。邀请符合资格条件的供应商参加报名。现就有关事项公告如下:

一、采购项目编号:INEW-ZB-2019006        

二、采购项目名称:智能电子应用协同创新中心PI膜腐蚀自动化设备询价采购

三、项目采购内容:

项目地点:武汉市东湖高新技术开发区未来科技城

采购内容:智能电子应用协同创新中心PI膜腐蚀自动化设备询价采购。

供货期:40日历天

四、本项目采购限价:20

、供应商资格条件:

1.投标方应为生产方,并具备较强的技术实力,产品稳定运行,且维护迅捷。

 2.具备自主研发生产能力,为100万及以上注册资金的企业。

六、报名及获取询价通知书信息:

1.报名及获取询价通知书时间:2019年4月10日下午17:00

  

2.报名及获取询价通知书地点:武汉市东湖高新开发区高新大道999号武汉未来科技城A8-B栋新能源研究院大楼8楼。

3.获取通知书方式:现场领取。

请投标单位携带以下证件原件及加盖公章的复印件到指定地点报名及领取询价通知书文件:

(1)    法定代表授权委托书及授权委托人二代身份证;

(2)    营业执照、组织机构代码证(三证合一单位只需提供营业执照);

(3)    银行开户许可证。

4. PI膜腐蚀自动化设备技术指标

(1)    流程自动化

设备能对柔性基底覆铜PI膜蚀刻、去膜、干膜三项工艺流程做到全自动化,同时全程可视,可以做到无人值守;

(2)    反应槽容量

设备应至少具备下列三个反应槽:

蚀刻槽有效容量:长70cm15cm80cm

去膜槽有效容量:长70cm15cm80cm

清洗槽有效容量:长70cm15cm80cm

(3)    蚀刻

将显影后PI膜放入蚀刻反应槽内用蚀刻液进行蚀刻操作,清除无蓝膜保护的铜膜,过程中能够通过软件实时显示和控制反应温度、水位、pH值(检测即可)、时间,同时蚀刻液在反应过程中还需处于流动状态,工序完成后有声光提示,水位、PH、温度异常时有声光报警提示。

时间控制范围为:0~24小时,精度为1

温度控制范围为:10~90℃,精度为:0.1℃;

水位控制范围为:0~75cm,精度为0.1cm

pH值检测范围为:1~14,精度为0.1

(4)    去膜

将刻蚀后PI膜放入去膜反应槽内用去膜液进行去膜操作,清除蓝膜,过程中能够通过软件实时显示和控制温度、水位、pH值(检测即可)、时间,工序完成后有报警提示,水位、PH、温度异常时有声光报警提示。

时间控制范围为:0~24小时,精度为1

温度控制范围为:10~50℃,精度为:0.1℃;

水位控制范围为:0~75cm,精度为0.1cm

pH值检测范围为:1~14,精度为0.1

(5)    干膜

将去除蓝膜的PI膜放入清洗槽内通过喷淋的方式将表面残液清洗干净,,清洗后将其风干过程能够通过软件实时显示和控制时间、水流,清洗后将其风干,工序完成后有声光提示。

时间控制范围为:0~24小时,精度为1秒;

(6)    废液回收

以上三道工序产生的废液,应由专用的废液回收槽进行回收后,集中处理,废液回收槽的容量应大于上述三个反应槽的总容量的2倍,废液槽容量达到85%应当有报警提示,废水槽可以抽出,有高低两个排水口,且透明可视。

 

5.响应文件要求:

①供应商只能提供一份报价方案,报价资料需加盖公章,不符合要求者视为无效报价。

②各供应商报价应为一次性报价,总价应含送货、安装、税费等一切费用。

③供应商应对售后服务做出明确承诺(如:交机6个月内出现3次及以上故障,支持无条件换一台同规格新机器。)

七、现场踏勘

采购人将不统一组织现场踏勘,供应商应自行对安装地点进行踏勘。采购人将予以支持协助,费用由供应商自理。

八、投标截止时间、开标时间及地点

1.响应文件接收截止及询价时间:2019年04月15日下午2:30

2.响应文件接收地点及询价地点:武汉新能源研究院有限公司8楼会议室。

九、询价公告查询:

www.inew.cn(武汉新能源研究院有限公司网站)

十、联系方式:

招标单位:武汉新能源研究院有限公司

联 系 人:施维轩

联系电话:027-87936660-811  18086085481

详细地址:武汉市东湖高新区未来科技城高新大道999号新能源大楼8楼

 

                                              

                                           日期:20190408